Получение метилового эфира монохлоруксусной кислоты

Рефераты по химии / Получение метилового эфира монохлоруксусной кислоты
Страница 3

В процессе реакции происходит накопление паров хлористого водорода, метанола. Для предотвращения избыточного давления в аппарате предусмотрена схема охлаждения паров (поток 4) в Т – 1 и сепарация в С – 1, где происходит конденсация паров метанола и возврат в его в реактор потоком 6. Хлористый водород после сепарации направляется на узел получения 30 % соляной кислоты потоком 8.

Основной аппарат – реактор Р – 1:

Т на входе в реактор 20 – 25 °С.

Т на выходе 40 – 45 °С.

Т процесса 40 – 45 °С.

Р процесса 1–1,5 кгс/см2

Реактор представляет собой аппарат емкостного типа с перемешивающим устройством и рубашкой, изготовлен из стали марки Вст3сп5, 09Г2С и 12Х18Н10Т, внутри футерованный. Подвод сырья осуществляется через крышку аппарата, опорожнение через днище. Теплоноситель в рубашке – вода.

После окончания реакции продукт сгружают в емкость Е – 1 (поток3), далее насосом Н – 1 происходит подача нашего продукта в барбатажную колонну БК – 1. Где с помощью подачи воздуха происходит поглощение остатков паров метанола и хлористого водорода. Опять же чтобы не было потерь метанола происходит отдув потоком 6 в Т –1.

Чтобы более полно убрать коррозионно-активное вещество в моем продукте и вообще на линии производства, я на данном предприятии предусмотрел процесс адсорбции. Т.е. смесь после БК – 1 поступает в адсорбционную колонну АД – 1, в которой находится обезвоженный гидроксид кальция. В основном большое количество хлористого водорода удаляется во время реакции около 80 %, в барбатажной колонне 15 – 20 %. Адсорбционная колонна может и не работать в основном режиме, если на выходе из БК – 1 допустимая концентрация хлористого водорода не превышает норму.

Потоком 9 продукт последовательно поступает в емкость Е – 2 и нагреваясь в теплообменнике Т – 2 подается в ректификационную колонну РК – 1, где происходит отделение четыреххлористого углерода. Пары с верха колонны потоком 10 поступают в теплообменник Т – 6, где они конденсируются. Конденсат поступает в емкость Е – 3, он же и является флегмой для колонны РК – 1. Избыток конденсата с Е – 3, отводится в мерник Е – 2 или на узел получения ХАХ.

Ректификационная колонна РК – 1:

Т на входе 65 – 80 °С.

Т верха колонны 70 – 80 °С.

Т куба колонны 90 – 100 °С.

Аппарат колонного типа, внутри которого расположены ситчатые тарелки, типа ТСР – 1.

Затем наш конечный продукт потоком 11, метиловый эфир монохлоруксусной кислоты (МЭМХУК), с куба колонны РК – 1 поступает на нагнетание в насос Н – 2, который подает его в емкость Е – 4. Откуда он поступает в теплообменник Т – 4 и далее в колонну РК – 2.

На самом деле вторая ректификационная колонна нужна лишь для того, чтобы полностью отделить четыреххлористый углерод от МЭМХУК. Если в процессе достигается полное отделение его на первой стадии, то колонна РК – 2 будет находиться в резерве.

Ректификационная колонна РК – 2:

Т на входе 75 – 90 °С.

Т верха колонны 80 – 90 °С.

Т куба колонны 90 – 100 °С.

Аппарат колонного типа, внутри которого расположены ситчатые тарелки, типа ТСР – 1.

Продукт отводится с куба колонны, охлаждается и поступает на ТСБ.

ТЕХНИКА БЕЗОПАСНОСТИ

ФИЗИЧЕСКАЯ ОПАСНОСТЬ: Пар тяжелее воздуха.

ХИМИЧЕСКАЯ ОПАСНОСТЬ: Вещество разлагается при сжигании с образованием едких дымов хлористого водорода. Реагирует с восстановителями и окислителями.

НОРМАТИВЫ ДЛЯ РАБОЧЕЙ ЗОНЫ: Российские нормативы: максимально разовая ПДК в воздухе рабочей зоны 5мг/м3. Класс опасности: 3 (1998).

ПУТИ ПОСТУПЛЕНИЯ: Вещество может всасываться в организм при вдыхании паров через кожу и через рот.

РИСК ПРИ ВДЫХАНИИ: Опасное загрязнение воздуха будет достигаться довольно быстро при испарении этого вещества при 20°C.

ВЛИЯНИЕ КРАТКОВРЕМЕННОГО ВОЗДЕЙСТВИЯ: Вещество оказывает разъедающее действие на кожу сильно раздражает.

Страницы: 1 2 3 4

Информация о химии

Нанокристаллы для белизны зубов

Исследователям из Германии удалось разработать новый класс стеклокерамических материалов с нанокристаллической структурой, который, вероятно, может идеально подходить для применения в стоматологии благодаря своей высокой прочности ...

Ган (Hahn), Отто

Немецкий химик Отто Ган родился во Франкфурте-на-Майне и был одним из трех сыновей Генриха Гана, стекольщика, и Шарлотты Гизе (в девичестве Штуцман) Ган. После получения начального образования в Клингерском реальном училище Ган по ...

Хауптман (Hauptman), Херберт Аарон

Американский биофизик Херберт Аарон Хауптман родился в Нью-Йорке в семье Израиля и Лич (в девичестве Розенфельд) Хауптман. Он вырос в Бронксе и получил среднее образование в школе Трунсенда Харриса, которую окончил в 1933 г. Углуб ...